DB500拥有自主可控的场发射电子镜筒和“承影”离子镜筒,是一款优雅全能的纳米分析和制样工具。高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,低电压高分辨率成像,保证纳米分析能力。“承影”离子镜筒采用液态镓离子源,拥有高稳定、高质量的离子束流,保证纳米加工能力。集成式的纳米机械手、气体注入器、电子物镜防污染机构,拥有24个扩展口,配置全面,自主可控,扩展性强,为您打造全能纳米分析和加工中心。
DB500拥有自主可控的场发射电子镜筒和“承影”离子镜筒,是一款优雅全能的纳米分析和制样工具。高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,低电压高分辨率成像,保证纳米分析能力。“承影”离子镜筒采用液态镓离子源,拥有高稳定、高质量的离子束流,保证纳米加工能力。集成式的纳米机械手、气体注入器、电子物镜防污染机构,拥有24个扩展口,配置全面,自主可控,扩展性强,为您打造全能纳米分析和加工中心。
010- 82900840
高压隧道技术
镓离子束
配置全面
气体注入器
集成式机械手
质保无忧
产品优势
高压隧道技术和无漏磁物镜的电子镜筒,高分辨率成像,兼容磁性样品
“承影”离子镜筒,高稳定、高质量的离子束流,用于高质量纳米加工和TEM制样样品仓内压电陶瓷驱动的机械手,集成式控制方式,操作精准到位
自主可控,扩展性强,集成化设计的离子源更换时间快,极致的售后服务,提供免费的三年质保无忧服务
技术介绍
离子镜筒"承影"
技术特点
分辨率:3 nm@30 kV
探针电流:1 pA~50 nA
加速电压范围:500 V~30 kV
使用寿命:≥1000小时
长时间稳定性:72小时不间断工作
纳米机械手
技术特点
仓内安装方式
三轴全压电驱动
步进精度≤10nm
最大移动速度2mm/s
集成式控制方式
离子束-电子束协同
气体注入器
单气体注入
多种气源可选
伸缩距离≥35 mm
重复定位精度≤10 um
加热温度控制精度≤0.1℃
加热温度范围:室温~90℃
集成式控制方式
应用案例
金线/30 kV/800X/ETD
芯片/1 kV/1500X/ETD
芯片/1 kV/15000X/ETD
产品参数
电子束系统 | 电子枪类型 | 高亮度肖特基场发射电子枪 |
分辨率 | 1.2 nm@15 kV | |
加速电压 | 20 V ~ 30 kV | |
离子束系统 | 离子源类型 | 液态镓离子源 |
分辨率 | 3 nm@30 kV | |
加速电压 | 500 V ~ 30 kV | |
样品室 | 真空系统 | 全自动控制,无油真空系统 |
摄像头 | 三摄像头 | |
(光学导航+样品仓内监控x2) | ||
样品台类型 | 五轴机械优中心样品台 | |
样品台行程 | X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm | |
T: -10°~+70°,R: 360° | ||
探测器和扩展 | 标配 | 镜筒内电子探测器 |
旁侧二次电子探测器(ETD) | ||
选配 | 插入式背散射电子探测器(BSED) | |
插入式扫描透射探测器(STEM) | ||
能谱仪(EDS) | ||
背散射衍射(EBSD) | ||
纳米机械手 | ||
气体注入器 | ||
等离子清洗 | ||
样品交换仓 | ||
轨迹球&旋钮控制板 | ||
软件 | 语言 | 中文 |
操作系统 | Windows | |
导航 | 光学导航、手势快捷导航 | |
自动功能 | 自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散 |
科研设备丨半导体材料丨高精度检测丨清洁度检测丨激光刻蚀丨光栅刻蚀丨离子刻蚀丨等离子清洗丨半导体检验丨蔡司电镜丨材料科研丨二维刻蚀丨倾角刻蚀丨3维超景深丨扫描电镜丨失效分析丨共聚焦显微镜 XML地图