技术资讯-半导体材料分析-高精度检测设备-激光刻蚀

北京大学电子束曝光系统采购中标结果公告一、项目编号：BMCC-ZC25-1368二、项目名称：北京大学电子束曝光系统采购三、中标信息：01包供应商名称：北京瑞科中仪科技有限公司···

2025-10-2246

红外光谱是一种分析技术，用于研究物质的分子结构和化学键。它通过测量样品对不同波长红外光的吸收情况来获取信息。以下是完整分析后生成的内容：红外光谱的基本原理红外光···

2025-08-2671

TEM通过电子束穿透经过特殊制备的薄样品层，利用透镜系统对穿透后的电子束进行聚焦成像。SEM则通过聚焦电子束扫描样品表面，通过探测从样品表面散射的次级电子来构建图像。

2024-09-132180

电子束光刻是一种利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的光刻技术。电子抗蚀剂是一种对电子敏感的高分子聚合物，经过电子束扫描后，电子抗蚀剂的分子···

2024-03-051736

进口深硅刻蚀是一种在半导体制造中常用的技术，用于制造微米甚至纳米级别的集成电路和MEMS（微电子机械系统）等产品。该技术通过物理或化学反应，将硅基底材料进行微观加工···

2024-03-041788