德国 SURFACE PLD

PLD-工作站

特征

• 一体式框架解决方案，支持快速“即插即用”安装
• 先进的工艺自动化，也非常适合超晶格沉积
• 具有先进温度测量功能的抗氧基板加热器，1000°C
• 可选基板激光加热
• 具有交叉污染屏蔽的灵活先进目标机械手
• 为系统升级准备的真空室（RHEED、等离子体源、OES/FTIR等）
• 表面通量控制选项，可获得100%可重现的结果
• 完全封闭的光束线，可实现无障碍、安全的操作
• 交钥匙交付
• 通过互联网提供高级在线支持

终极氧化物原型系统

脉冲激光沉积（PLD）是薄膜沉积的通用工艺，其主要优点是化学计量的材料从靶转移到基底。地面PLD工作站是这出色的薄膜原型制作和研究系统，可轻松获取新材料，尤其是先进的氧化层。

PLD工作站将PLD系统的所有组件（包括激光器和激光气体供应）集成到一个机架中。紧凑的设计能够最灵活地使用系统，并避免了许多硬件安装工作。所有这些都是无与伦比的多功能性的关键，即使对于以前没有PLD技术经验的用户也可以使用PLD！

PLD工作站以强大而紧凑的封装提供先进的沉积技术，适用于各种应用。尽管具有内置的灵活性，但安全始终是重中之重:

• 带有外部驱动反射镜调节功能的全封闭激光束线可安全地防止暴露在紫外线激光辐射下
• 激光器和激光气体柜永久连接到外部排气管线

真空室:具有内置的灵活性

真空室是为研究而设计的。它具有适用于最常见的原位分析工具或其他系统扩展的备用法兰:

此外，两名窗子允许从两个不同的角度和两个侧面对过程进行视觉接触。大前门使主要工艺部件:靶和衬底机械手完全可以进入。标准配置提供一个2英寸衬底加热器和一个4×2英寸索引目标操纵器。加热器对于1英寸基材和激光加热器都是可选的。

为了调节工艺条件，标准配置有两个质量流量控制器通道，用于将工艺气体供应到反应室中。它们能够自动控制工艺气氛和压力。

通过的设计目标操纵器结合控制软件，可避免在目标表面形成锥形，并保证目标的均匀磨损。激光束将以两种不同的入射角击中目标的每个点，因此不会形成影响烧蚀材料化学计量的锥体。

为了实现均匀的靶磨损，沉积过程中有两种不同的靶移动模式:

• 切换:

  目标转盘以连续运动的方式来回移动，以便激光束在距离目标中心的任何半径处击中目标。该模式易于设置，只需知道目标直径。

• 扫描:

  移动目标转盘，使激光束在目标上“写入”定义的轨迹。调整目标旋转速度和轨道间距以匹配激光光斑大小和重复率。这实现了目标表面的非常均匀的磨损。

表面流量控制

可选地，PLD工作站可以配备表面通量控制。这一特性极大地增强了薄膜沉积的可再现性:在每个沉积步骤之前，自动校准激光流量并调整脉冲能量，以随着时间的推移保持恒定的沉积条件。为了校准目标转盘被移动到使激光束能够通过与激光入射窗相对的窗口射出腔室的位置。自动安全快门打开，功率计可以测量脉冲能量。这种设计确保了在测量过程中光束路径中唯一的附加光学部件是出射窗。通常这种窗户由安全百叶窗保护，可以长时间保持清洁。这样，可以可靠地确定到达目标的真实脉冲能量。

控制软件

所有表面PLD系统都是高度自动化的，以控制整个沉积过程。这确保了系统的简单操作。这PlumeMaster软件基于久经考验的Windows XP专业版操作系统。具有单独设置的几个工艺步骤可以组合成一个沉积程序。直观的过程可视化、具有数据导出功能的高度灵活的数据记录和自测功能是额外的功能。

所提供的软件还包括冲浪用品–SURFACE的高级客户支持工具:

• 快速联系表面支持小组
• 地面支持工程师通过互联网（TCP/IP）和集成网络摄像头提供视听支持
• 支持工程师可以远程控制系统，同时保持视听联系
• 硬件问题以及客户工艺编程问题的简单故障排除
• 通过互联网的自动软件更新程序

PLD-Lab:多室，一个激光器

如果需要更大的吞吐量，可以将几个PLD工作站组合成一个共享一台激光器的系统。然后，带有自动反射镜的扩展光束线将激光束引导至所需的PLD工作站腔室。激光服务器计算机基于请求表自动控制激光器和光束线，并且PLD室中的沉积工艺被延迟，直到激光器可用于特定室。

系统规范

产品照片