EBPG Plus电子束光刻系统—自动化、高产量和高可靠性的高分辨率光刻

电子束光刻系统

自动化、高产量和高可靠性的高分辨率光刻

EBPG Plus是一种超高性能电子束光刻系统。这个经过现场验证的非常成功的系列现在已经达到了一个更高的进化水平。随着100 kV写入模式和5纳米以下的高分辨率光刻，涵盖了直写纳米光刻、工业R&D和各种纳米制造设施中批量生产的广泛前沿应用。产量、稳定性、保真度和精度的全新整合确保了所有性能参数之间的完美互动，从而获得理想的高分辨率光刻结果。

功能

自动化晶圆和多样品曝光

自动曝光参数切换和校准，实现高通量和高分辨率之间的无缝稳定切换

易于学习的图形用户界面和脚本终端界面

安全的多用户环境和不同的访问级别

建立时间非常短的极快级

自动2-或10-支架气闸，

快速无误的样品对齐

实现最低线边缘粗糙度的高级断裂模式

使用Firebird技术进行高效的数据处理，在最短的时间内实现最高的模式保真度

使EBPG加一个非常多才多艺的电子束光刻系统，是工业和学术使用的首选。

塑造纳米制造的未来

EBPG升级版提供以下独特组合自动化, 模块性，以及表演。直观的用户界面加上自动化工作流程可选的数据预处理软件有助于用户专注于获得结果，而不是系统处理。有多种不同的夹具可供选择，EPBG Plus提供无与伦比的自动化，不受晶圆或样品几何形状的限制。此外，高分辨率光刻系统可以现场升级随时配合不断变化的需求。

进化技术

作为专业电子束光刻系统的市场领导者，我们提供在纳米技术前沿不断磨练和改进的系统。这为我们提供了自信地满足工业客户苛刻要求所需的经验保证稳定性和正常运行时间。EBPG加允许24/7批处理模式操作操作员输入最少高产量和产量。

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